[发明专利]供化学机械抛光用的透明微孔材料有效
| 申请号： | 200380102155.6 | 申请日： | 2003-10-06 |
| 公开（公告）号： | CN1708377A | 公开（公告）日： | 2005-12-14 |
| 发明（设计）人： | 阿巴尼什沃·普拉萨德 | 申请（专利权）人： | 卡伯特微电子公司 |
| 主分类号： | B24B37/04 | 分类号： | B24B37/04;B24B49/12;B24D7/12 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 封新琴;巫肖南 |
| 地址： | 美国伊*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及一种化学－机械抛光垫基材，包含一种具有平均孔径0.01微米至1微米的多孔材料。该抛光垫基材在200纳米至35,000纳米的至少一个波长下具有透光度 10％或更多。本发明进一步指出一种包含该抛光垫基材的抛光垫、一种包含使用该抛光垫基材的抛光方法及一种包含该抛光垫基材的化学－机械装置。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 机械抛光 透明 微孔 材料 | ||
【主权项】：
1.一种化学-机械抛光垫基材，包含一种具有平均孔径0.01微米至1微米的多孔材料，其中该抛光垫基材在200纳米至35,000纳米的至少一个波长下具有透光度10％或更多。
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