[发明专利]含金属-氧键的分散质、金属氧化物膜以及单分子膜无效
申请号: | 200380103054.0 | 申请日: | 2003-11-12 |
公开(公告)号: | CN1711213A | 公开(公告)日: | 2005-12-21 |
发明(设计)人: | 木村信夫;藤田佳孝;中本宪史;土岐元幸;樋口章二;小野和男;肥高友也;武田博行 | 申请(专利权)人: | 日本曹达株式会社 |
主分类号: | C01B13/32 | 分类号: | C01B13/32;B05D1/20;B05D7/02 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人: | 徐谦 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明的目的在于提供适合在200℃以下的低温制造金属氧化物膜以及适合制造均质的有机-无机复合物时使用的含金属-氧键的分散质,同时提供具有各种功能的金属氧化物薄膜和有机-无机复合物,特别是具有高折射率、高透明性的有机-无机复合物。本发明使用含金属-氧键的分散质,其特征在于,其通过在有机溶剂中,在不存在酸、碱和/或分散稳定剂的情况下,将具有3个以上水解性基团的金属化合物与相对于该金属化合物的0.5倍摩尔以上且不到2倍摩尔的水在水解起始温度以下的温度混合,并升温至水解起始温度温度以上而得到的。 | ||
搜索关键词: | 金属 分散 氧化物 以及 分子 | ||
【主权项】:
1.含有金属-氧键的分散质,其是在不存在选自酸、碱以及分散稳定剂中的至少1种的情况下,将具有3个以上的水解性基团的金属化合物与规定量的水在规定温度下混合而得到的,其特征在于,所述规定量为相对于该金属化合物总摩尔数的1.0倍摩尔以上且小于2.0倍摩尔,且所述规定温度为小于0℃的温度。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日本曹达株式会社,未经日本曹达株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200380103054.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。