[发明专利]使用超高耐热性正型感光组合物的图案形成方法无效
| 申请号： | 200380104283.4 | 申请日： | 2003-11-14 |
| 公开（公告）号： | CN1717626A | 公开（公告）日： | 2006-01-04 |
| 发明（设计）人： | 井川昭彦;山本敦子 | 申请（专利权）人： | AZ电子材料(日本)株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/022;G03F7/20;G03F7/40;G03F1/08 |
| 代理公司： | 北京三幸商标专利事务所 | 代理人： | 刘激扬 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 在对于光致抗蚀图案需要高耐热性的工艺中，如制备TFT活性基质基板工艺中，通过使用正型感光组合物可形成一种超高耐热性的正型图案。本发明的图案形成方法包括以下步骤：涂敷一种感光组合物到基板材料之上以形成感光层的步骤，该感光组合物含有(a)碱溶性树脂、(b)具有醌二叠氮基的感光剂、(c)光酸产生剂、(d)交联剂和(e)溶剂；接着透过掩模使基板曝光的步骤；通过显影除去曝光区域以形成正型图像的步骤；使该正型图像的整个区域曝光的步骤；和(如果需要)后烘焙处理。对于使用1，2－萘醌－4－磺酰化合物作为具有醌二叠氮基的感光剂的情形，以上成分(c)可以省略，这是由于该化合物还充当着成分(c)光酸产生剂的作用。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 超高 耐热性 感光 组合 图案 形成 方法 | ||
【主权项】：
1.一种图案形成方法，其特征在于它包括以下步骤：[1]涂敷一种感光组合物到基板材料之上以形成感光层的步骤，该感光组合物含有(a)碱溶性树脂、(b)具有醌二叠氮基的感光剂、(c)光酸产生剂、(d)交联剂和(e)溶剂，[2]透过掩模使该感光层曝光的步骤，[3]通过显影除去所述曝光区域以形成正型图像的步骤，和[4]使该正型图像的整个区域曝光的步骤。
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