[发明专利]调整基底形状的卡盘系统和方法有效

专利信息
申请号: 200380106274.9 申请日: 2003-11-12
公开(公告)号: CN1726429A 公开(公告)日: 2006-01-25
发明(设计)人: B-J·乔伊;R·D·弗伊欣;S·V·斯里尼瓦桑;M·P·C·瓦茨;D·A·巴布斯;M·J·美斯尔;H·L·贝利;N·E·苏马克 申请(专利权)人: 分子制模股份有限公司
主分类号: G03B27/58 分类号: G03B27/58;G03B27/60;G03B27/32;B29C35/08;H01L21/461
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 代理人: 顾峻峰
地址: 美国得*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明涉及一种卡盘系统(40)和调整基底(26)形状的方法,基底具有对置的第一表面(26b)和第二表面(26a)。这是通过在第一对置表面的不同区域之间建立压力差以减轻第二对置表面的结构扭曲而获得,该扭曲是由于基底上的外力负载而发生。为此目的,卡盘系统包括具有对置的第一面和第二面的卡盘体,两面之间延伸侧面。第一面包括隔开距离的第一(58)和第二(60)支承区域。第一支承区域环绕第一(52)和第二(54)凹进处。第二支承区域环绕第二凹进处,其中与第二凹进处重叠的卡盘体的部分对于具有预定波长的辐射是透明的。第二面和侧面限定外部表面。
搜索关键词: 调整 基底 形状 卡盘 系统 方法
【主权项】:
1.一种保持基底的卡盘系统,所述卡盘系统包括:卡盘体,具有对置的第一和第二面,其间延伸边缘表面,所述第一面包括隔开距离的第一和第二凹进处,它们限定隔开距离的第一和第二支承区域,其中所述第一支承区域环绕所述第二支承区域和所述第一及第二凹进处,而所述第二支承区域环绕第二凹进处,其中与所述第二凹进处重叠的所述卡盘体的一部分对于具有预定波长的辐射透明,所述部分从所述第二面延伸而在所述第二凹进处附近终止,所述第二面和所述边缘表面限定外部表面,其中所述卡盘体包括延伸通过所述卡盘体的通路,使所述第一和第二凹进处之一与所外部表面之一流体连通。
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