[发明专利]真空蒸镀装置及蒸镀薄膜制造方法有效
| 申请号： | 200380107480.1 | 申请日： | 2003-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN1732284A | 公开（公告）日： | 2006-02-08 |
| 发明（设计）人： | 佐佐木昇;铃木浩;小泉文刚;今井伸彦;新井邦正;小长井裕之 | 申请（专利权）人： | 凸版印刷株式会社;应用薄膜有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C16/54 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 蔡胜利 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 公开了一种真空蒸镀装置和一种蒸镀膜制造方法，用于通过在原料薄膜的表面上形成蒸镀层而产生蒸镀膜。在真空蒸镀装置中，同步装置(18)将涂辊(14)的圆周速度v1和收取导辊(15)的圆周速度v2设置为v1＝v2，从而位于蒸镀膜表面上的蒸镀层不会摩擦收取导辊(15)。因此，消除了损坏蒸镀层的可能性，以使蒸镀层具有足够的性能。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 装置 薄膜 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种真空蒸镀装置(1)，其中，从进给棍(11)进给的原料薄膜(f1)在真空中从进给导辊(13)被引导至涂辊(14)，蒸镀层形成在缠绕于涂辊上的所述原料薄膜的表面上，从而产生蒸镀膜(f2)，所述蒸镀膜被围绕着收取辊(17)收取，收取导辊(15)保持从涂辊引导出来的蒸镀膜(f2)上的蒸镀层，其特征在于：设有同步装置(18)，其被构造成使涂辊(14)的圆周速度v1和收取导辊(15)的圆周速度v2均衡化，从而达到v1＝v2。
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