[发明专利]镀膜装置和镀膜方法及该镀膜装置专用的镀膜室无效
| 申请号： | 200410000360.8 | 申请日： | 2004-01-09 |
| 公开（公告）号： | CN1580318A | 公开（公告）日： | 2005-02-16 |
| 发明（设计）人： | 金一镐;金显正;赵国衡;方溢焕 | 申请（专利权）人： | 查姆工程株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 余刚 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明涉及一种镀膜装置和镀膜方法及该镀膜装置专用的镀膜室。本发明的目的在于，不使用可制造真空环境的真空箱，也能实现在空气中有效镀膜。该镀膜装置分别包括以下几部分：镀膜室，安装在镀件的上方一定间距处；金属供给部分，通过镀膜室给镀件提供特定的金属微粒；金属通道，设置于镀膜室，并且将金属供给部分提供的金属微粒运送到镀件；高压气体供给部分；高压气体通道，为了使通过金属通道提供给镀件的金属微粒与外部空气隔离，设置于镀膜室，并将高压气体供给部分提供的高压气体运送到镀件；至少一个排出通道，设置于镀膜室，并排出使用后产生的副产物及高压气体；排气部分，与排出通道相连，并可抽吸通过排出通道排出的使用完的金属微粒及高压气体。因此，不使用制造真空环境的真空箱，也可以在空气中有效镀膜。 | ||
| 搜索关键词： | 镀膜 装置 方法 专用 | ||
【主权项】：
1.一种镀膜装置，所述镀膜装置包括：镀膜室，安装在镀件的上方一定间距处；金属供给部分，通过所述镀膜室将特定的金属微粒提供给所述镀件；金属通道，设置于所述镀膜室，将所述金属供给部分提供的所述金属微粒运送到所述镀件；高压气体供给部分；高压气体通道，为了使通过所述金属通道提供给所述镀件的所述金属微粒与外部空气隔离，设置于所述镀膜室，将所述高压气体供给部分提供的高压气体运送至所述镀件；至少一个排出通道，设置于所述镀膜室，排出使用后产生的副产物及高压气体；以及排气部分，与所述排出通道相连，并且抽吸通过所述排出通道排出的使用完的所述金属微粒及所述高压气体。
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