[发明专利]分散稳定性良好的研磨剂浆体及基板的制造方法有效
| 申请号： | 200410005562.1 | 申请日： | 2004-02-18 |
| 公开（公告）号： | CN1550537A | 公开（公告）日： | 2004-12-01 |
| 发明（设计）人： | 长俊连;岩城彰;麻生敏明 | 申请（专利权）人： | 多摩化学工业株式会社 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 陈昕 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种分散稳定性优良的研磨剂浆体，包含：由一种或两种以上的氧化物构成的研磨微粒、为胶状氧化物具有比上述研磨微粒小的平均粒径的胶态微粒、使这些研磨微粒和胶态微粒分散的分散介质，以及，一种基板制造方法，包含采用这样的研磨剂浆体对无机质基板进行研磨的研磨工序。本发明的研磨剂浆体，在长时间内分散稳定性良好，另外，再分散性良好，可以尽可能地消除沉淀、凝聚问题，而且，可以在完全不采用有机类分散剂的分散剂浆体中使用，特别地，可以在工业上有利地利用CMP制造在半导体制造工艺中使用的硅基板和在静电卡盘制造工序中使用的铝基板等基板。 | ||
| 搜索关键词： | 分散 稳定性 良好 研磨剂 制造 方法 | ||
【主权项】：
1、一种分散稳定性优良的研磨剂浆体，包含：由一种或两种以上的氧化物构成的研磨微粒、为胶状氧化物具有比上述研磨微粒小的平均粒径的胶态微粒和使这些研磨微粒和胶态微粒分散的分散介质。
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