[发明专利]用于光刻装置的水平传感器有效
| 申请号： | 200410005823.X | 申请日： | 2004-01-13 |
| 公开（公告）号： | CN1517798A | 公开（公告）日： | 2004-08-04 |
| 发明（设计）人： | P·A·A·特尼森;P·J·M·布鲁德巴克;R·M·G·J·奎恩斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 廖凌玲;蔡民军 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种用于光刻投射装置的水平传感器，该水平传感器包括一个光源、一个第一反射器、一个第二反射器以及一个检测器，该第一反射器定位成使来自光源的光导向晶片表面，该第二反射器定位成将从晶片表面反射的光导向检测器，其中对第一和第二反射器进行选择，从而产生最小的工艺相关视在表面凹陷。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光刻 装置 水平 传感器 | ||
【主权项】：
1.一种用于光刻投射装置的水平传感器，该水平传感器包括一个光源、一个第一反射器、一个第二反射器以及一个检测器，该第一反射器定位成使来自光源的光导向晶片表面，该第二反射器定位成将从晶片表面反射的光导向检测器，其中对该第一和第二反射器进行选择，从而产生最小的工艺相关视在表面凹陷。
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