[发明专利]微光学器件数字分形掩模制作方法无效
| 申请号： | 200410017769.0 | 申请日： | 2004-04-16 |
| 公开（公告）号： | CN1564084A | 公开（公告）日： | 2005-01-12 |
| 发明（设计）人： | 吕海宝;漆新民;谌廷政;高益庆;罗武胜;周卫红;朱小进;周鞠宁;罗宁宁 | 申请（专利权）人： | 南昌航空工业学院;中国人民解放军国防科学技术大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F1/00 |
| 代理公司： | 江西省专利事务所 | 代理人： | 张静;张文 |
| 地址： | 330034江西*** | 国省代码： | 江西;36 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种微光学器件数字分形掩模制作方法，它是先将一幅高频掩模图形分解成m幅大小相等的低频掩模，然后将这m幅低频掩模叠加，叠加后对应位置的灰度值相加等于原高频掩模对应位置的灰度值，再通过实时掩模技术，将这m幅低频掩模顺序曝光，每幅曝光时间是原掩模曝光时间的1/m，从而恢复出原高频掩模图形。本发明具有如下优点：(1)降低精缩投影透镜低通滤波特性对光刻曝光影响，可使透镜造成的高频损失降低至0.1％以内，较好地改善了灰阶掩模图形的边缘锐度，提高了电寻址空间光调制器制作灰度掩模的光刻分辨力；(2)实时掩模曝光解决了多个分形掩模对准的难题；(3)降低掩模图形制作的难度；(4)易于选取感光材料的线性段曝光。 | ||
| 搜索关键词： | 微光 器件 数字 分形掩模 制作方法 | ||
【主权项】：
1、一种微光学器件数字分形掩模制作方法，其特征在于：(1)将一幅高频掩模图形分解成m幅大小相等的低频掩模，m为大于等于2的整数；(2)将这m幅低频掩模沿垂直于掩模所在平面的方向对准叠加，叠加后对应位置的灰度值相加等于原高频掩模对应位置的灰度值；(3)通过实时掩模技术，将这m幅低频掩模顺序曝光，每幅曝光时间是原掩模曝光时间的1/m，从而恢复出原高频掩模图形。
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