[发明专利]多层电路板及其制法无效
申请号: | 200410030716.2 | 申请日: | 2004-03-31 |
公开(公告)号: | CN1678167A | 公开(公告)日: | 2005-10-05 |
发明(设计)人: | 许诗滨 | 申请(专利权)人: | 全懋精密科技股份有限公司 |
主分类号: | H05K1/14 | 分类号: | H05K1/14;H05K3/46 |
代理公司: | 北京三幸商标专利事务所 | 代理人: | 刘激扬 |
地址: | 台湾省*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 一种多层电路板及其制法,主要提供多个具有图案化电路层的电路板单元,并在这些电路板单元表面形成绝缘层,然后进行图案化制程以使该绝缘层形成多个开口,或将该绝缘层薄化,外露出该电路板单元中需要进行接合的电路层,然后将这些电路板单元在真空状态下进行表面活化及接合制程,使显露于该绝缘层开口的电路层相互电性连接从而形成多层电路板,简化制程步骤及缩短制程时间与成本。本发明的多层电路板及其制法可提高制程优良率及布线灵活性,可在常温状况下进行多层电路板压合制程,以避免制程中不当热应力与翘曲问题产生,并且轻薄适用于小型的电子组件中。 | ||
搜索关键词: | 多层 电路板 及其 制法 | ||
【主权项】:
1.一种多层电路板制法,其特征在于,该制法包括:提供多个具有图案化电路层的电路板单元;在这些电路板单元上形成绝缘层,并将该电路板单元中需要进行电性接合的电路层外露出该绝缘层;以及将这些电路板单元置于真空状态下,进行表面活化制程与接合。
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