[发明专利]形成多孔膜的组合物,多孔膜和其制备方法,层间绝缘膜和半导体器件

摘要

根据本发明，用半导体工艺中常用的方法，很容易制备任意控制膜厚的薄膜。本发明提供了形成多孔膜的涂覆液，该多孔膜具有优良的介电常数及机械特性。具体地，形成多孔膜的涂覆液是含有缩合物及有机溶剂的多孔膜组合物，所述的缩合物是从至少一种选自用通式(X₂O)_i(SiO₂)_j(H₂O)_k表示的硅酸盐化合物和用通式(X₂O)_a(RSiO_1.5)_b(H₂O)_c表示的有机硅酸盐化合物在酸存在下缩合得到的。由此可制造用于半导体制造工艺的，具有足够机械强度和介电常数的多孔绝缘膜。

主权项

1.一种形成多孔膜的组合物，该组合物包括缩合物及有机溶剂，所述的缩合物是从至少一种选自用通式(1)表示的硅酸盐化合物和用通式(2)表示的有机硅酸盐化合物在酸的存在下缩合得到的，(X2O)i(SiO2)j(H2O)k …(1)式中，X独立地表示Li、Na、K、Rb、Cs或者季氮鎓，i、j和k独立地表示满足0＜i≤1、0＜j≤1、0＜k≤2的数；(X2O)a(RSiO1.5)b(H2O)c …(2)式中，R独立地表示氢原子或者有机基团，X独立地表示Li、Na、K、Rb、Cs或者季氮鎓；a、b和c独立地表示满足0＜a≤1、0＜b≤1、0≤c≤1.5的数。