[发明专利]Z偏移和不垂直照射产生的掩膜物体的Y移位中的位置校正有效
| 申请号： | 200410032185.0 | 申请日： | 2004-04-02 |
| 公开（公告）号： | CN1573556A | 公开（公告）日： | 2005-02-02 |
| 发明（设计）人： | E·A·F·范德帕斯;M·H·M·比姆斯;E·R·鲁普斯塔拉;H·J·M·梅杰;D·N·贾勃特 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 章社杲 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 在反射光刻投影设备中，由掩膜的图案表面的位置沿着光轴的变化引起的掩模的图案图像在扫描方向中的移位通过在扫描方向中移动掩模和/或衬底的相对位置来校正。图像旋转误差的校正也可以通过围绕光轴旋转掩模和/或衬底的相对位置来实现。当掩模安装到光刻投影设备时，掩模的图案表面沿着光轴的位置变化可以由干涉计来确定。这些变化可以绘制图和存储，以提供对光刻投影设备的控制。 | ||
| 搜索关键词： | 偏移 垂直 照射 产生 物体 移位 中的 位置 校正 | ||
【主权项】：
1.一种光刻投影设备，其包括：构造和设置为提供辐射投影束的辐射系统；构造和设置为支撑反射构图装置的支撑结构，该构图装置包括图案表面，以及构造和设置为根据需要的图案来构图投影束；保持衬底的衬底台；以及构造和设置为将构图的束投影到衬底的目标部分上的投影系统，其中，该支撑结构和衬底台在第一方向中可以相互移动，且通过调节构图装置在第一方向中的位置、调节衬底在第一方向中的位置、围绕平行于第二方向的轴线旋转衬底，以及围绕平行于第二方向的轴线旋转构图装置中的至少一种方法来校正图案表面在垂直于第一方向的第二方向中的位置的变化。
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