[发明专利]用于测量光刻装置中元件表面污染物的方法和设备无效
| 申请号： | 200410033011.6 | 申请日： | 2004-02-23 |
| 公开（公告）号： | CN1525160A | 公开（公告）日： | 2004-09-01 |
| 发明（设计）人： | R·库尔特;M·C·范贝克;A·E·迪斯特温克;E·R·基夫特;H·梅林;B·M·默滕斯;J·H·J·穆尔斯;L·H·J·斯蒂芬斯;B·T·沃尔施里恩 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司;卡尔蔡司SMT股份公司 |
| 主分类号： | G01N21/88 | 分类号： | G01N21/88 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 郑建晖 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种用于确定光刻投影装置中元件表面污染物的测量设备。该测量设备具有用于将辐射投射到至少一部分所述表面上的辐射发射器设备和用于接收来自该元件的辐射的辐射接收器设备。处理器设备与辐射接收器设备通信连接，用于得到接收辐射的一个属性，并根据辐射的该属性得到污染物的一个属性。以及一种用于测量光刻投影装置中元件表面污染物的属性的方法，包括；将辐射投射到表面上；接收来自该元件的辐射，以及根据接收的辐射得到污染物的属性。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 测量 光刻 装置 元件 表面 污染物 方法 设备 | ||
【主权项】：
1.一种用于测量光刻投影装置中元件表面污染物的至少一个属性的测量设备，包括：■辐射发射器设备，用于将投射的辐射投射到至少一部分所述表面上；■辐射接收器设备，用于响应于投射辐射而接收来自该元件的辐射；以及■与辐射接收器设备通信连接的处理器设备，用于得到接收辐射的至少一个属性，并根据所述接收辐射的至少一个属性来确定所述污染物的至少一个属性。
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