[发明专利]包括气体冲洗系统的光刻装置无效
| 申请号： | 200410039750.6 | 申请日： | 2004-02-11 |
| 公开（公告）号： | CN1530756A | 公开（公告）日： | 2004-09-22 |
| 发明（设计）人： | P·K·德博克西;T·A·R·范恩佩;R·J·胡特曼斯;A·C·A·乔科斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/00;H01L21/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 章社杲 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及一种包括气体冲洗系统的光刻投射装置，其中该气体冲洗系统和基底为在气体冲洗系统和基底间的径向气流限定一间隙，并且其中气体冲洗系统还包括一些用于产生径向气流的额外出口，并且其中所用的气体冲洗系统产生径向气流，使得在所述间隙任意位置，径向气流具有大于零并且方向向外的径向速度。 | ||
| 搜索关键词： | 包括 气体 冲洗 系统 光刻 装置 | ||
【主权项】：
1.一种光刻投射装置，包括：用于提供辐射投射光束(PB)的辐射系统；用于支撑构图部件的支撑结构(MT)，所述构图部件(MA)用于根据希望的图案对投射光束(PB)进行构图；用于保持基底(W)的基底台(WT)；用于将带图案的光束投射到基底(W)的靶部(C)上的投射系统(PL)，和气体冲洗系统(200)，其特征在于：所述气体冲洗系统(200)和所述基底(W)限定一个间隙，用于在所述气体冲洗系统(200)与所述基底(W)之间的径向气流(203)；所述气体冲洗系统(200)还包括用于产生所述径向气流的出口(202)，和所述气体冲洗系统(200)在使用时被设置得用于产生径向气流(203)，以使在所述间隙任意位置的所述径向气流(203)具有大于零且在间隙中方向向外的径向速度。
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