[发明专利]连接垫结构有效
申请号: | 200410050014.0 | 申请日: | 2004-06-24 |
公开(公告)号: | CN1612333A | 公开(公告)日: | 2005-05-04 |
发明(设计)人: | 洪盟琪;侯上勇;郑心圃 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | H01L23/48 | 分类号: | H01L23/48;H01L23/522;H01L21/44;H01L21/60 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 王一斌 |
地址: | 台湾省新竹*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 一种连接垫结构,包括一基底包含有一连接区域以及一检测区域。一第一介电层形成于该基底上,且包含有一环状沟槽以及一相对应形成一介电层岛状结构。一第一导电层形成于该第一介电层的该环状沟槽中。一保护层形成于该第一介电层上且包含有一开口,其中该开口的位置是相对应于该连接区域以及该检测区域,且该开口暴露该介电层岛状结构以一部分的该第一导电层。一第二导电层覆盖该保护层的开口,且电连接至该第一导电层。 | ||
搜索关键词: | 连接 结构 | ||
【主权项】:
1.一种连接垫结构,包含有:一基底,其包含有一连接区域以及一检测区域;一第一介电层,是形成于该基底上,且包含有一环状沟槽以及一相对应形成一介电层岛状结构;一第一导电层,形成于该第一介电层的该环状沟槽中;一保护层,形成于该第一介电层上且包含有一开口,其中该开口的位置相对应于该连接区域以及该检测区域,且该开口暴露该介电层岛状结构以一部分的该第一导电层;以及一第二导电层,覆盖该保护层的开口,且电连接至该第一导电层。
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