[发明专利]金刚石膜高速精密抛光装置及抛光方法无效
| 申请号： | 200410050364.7 | 申请日： | 2004-09-03 |
| 公开（公告）号： | CN1586815A | 公开（公告）日： | 2005-03-02 |
| 发明（设计）人： | 黄树涛 | 申请（专利权）人： | 沈阳理工大学 |
| 主分类号： | B24B39/06 | 分类号： | B24B39/06;B24B1/00 |
| 代理公司： | 沈阳技联专利代理有限公司 | 代理人： | 庞桂芝 |
| 地址： | 110168辽宁省*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 金刚石膜高速精密抛光装置及抛光方法，该装置包括床身、抛光盘驱动装置、金刚石膜驱动装置、真空抛光室外罩和加热器，抛光盘驱动装置设置在真空抛光室外罩内，并都固定在床身上，金刚石膜驱动装置固定在真空抛光室外罩的上面，加热器设置在上支架的上面，金刚石膜装卡在抛光头上，采用抛光盘与金刚石膜的高速相对运动产生摩擦热和抛光盘底面低温加热相结合的方法，使金刚石膜抛光表面温度迅速达到扩散温度，金刚石膜表面的凸点碳原子向由铁、镍等金属制成的抛光盘扩散磨损，从而达到抛光目的，本发明具有结构简单、抛光质量好、抛光效率高、生产成本低等优点，解决了热铁板抛光方法因抛光加热温度及温度分布梯度过大而造成的抛光盘翘曲变形大，抛光平面度差等问题。 | ||
| 搜索关键词： | 金刚石 高速 精密 抛光 装置 方法 | ||
【主权项】：
1、金刚石膜高速精密抛光方法，其特征是，首先将金刚石膜装卡在抛光头上，抛光头做逆时针方向旋转，转速为50～300r/min；抛光盘作顺时针方向旋转，转速为3000～6000r/min；抛光盘底面加热器的加热温度为80～150℃；抛光室抽真空，真空度为10-1Pa；并向真空抛光室外罩内通入活性气体；在抛光过程中，由于采用抛光盘与金刚石膜的高速相对运动而产生的摩擦热和抛光盘底面低温加热相结合的方法，使金刚石膜表面温度迅速达到600～850℃的扩散温度，金刚石膜表面的凸点碳原子向由铁、镍等金属制成的抛光盘扩散磨损。
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