[发明专利]光刻装置的校准方法和器件制造方法有效
| 申请号： | 200410055004.6 | 申请日： | 2004-06-25 |
| 公开（公告）号： | CN1577096A | 公开（公告）日： | 2005-02-09 |
| 发明（设计）人： | A·J·布里克;H·W·M·范布尔;J·洛夫 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 肖春京;蔡民军 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种校准方法包括：利用可独立控制元件阵列生成图案；为基底台提供辐射传感器；发射辐射从而在基底台处生成该图案的图像；使所生成的图案和基底台中的至少一个相对于彼此移动，从而使该图像相对于传感器移动；利用该传感器检测辐射强度；并且根据测得的强度以及可独立控制元件阵列和基底台的位置，计算校准量，该校准量建立了可独立控制元件阵列的坐标系坐标和基底台的坐标系坐标之间的关系。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 校准 方法 器件 制造 | ||
【主权项】：
1.一种用于光刻投影装置的校准方法，该装置包括：-用于提供辐射投影光束的照明系统；-用于使该投影光束在其横截面上具有图案的可独立控制元件阵列；-用于支撑基底的基底台；-用于将带图案的光束投影到基底的靶部上的投影系统，该方法包括：利用可独立控制元件阵列生成图案；为基底台提供辐射传感器；发射辐射从而在基底台处生成该图案的图像；使所生成的图案和基底台中的至少一个相对于彼此移动，从而使该图像相对于传感器移动；利用该传感器检测辐射强度；并且其特征在于根据测得的强度以及可独立控制元件阵列和基底台的位置，计算校准量，该校准量建立了可独立控制元件阵列的坐标系坐标和基底台的坐标系坐标之间的关系。
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