[发明专利]图形制造系统、曝光装置及曝光方法

摘要

一种图形制造系统、曝光装置及曝光方法，利用由加工用图形数据(100)指定的图形线的线宽与曝光量，对涂覆于基板上的铜箔上的抗蚀剂进行直接描绘曝光，再对曝光过的抗蚀剂进行显影来形成抗蚀图形，然后，蚀刻形成有抗蚀图形的基板上的铜箔来形成图形。这时，扫描蚀刻后的形成图形得到图像信息(200)，再对图像信息(200)的图形线的线宽与蚀刻后的目标的目标形成图形的图形线的线宽进行比较，根据该比较结果来调整由加工用图形数据(100)指定的图形线的线宽，再对使用调整过的线宽直接描绘抗蚀剂。因此，调整蚀刻液的劣化等的图形线的线宽的成品误差来形成图形而可得到精度高的成品。

主权项

1.一种图形制造系统，其特征在于，包括：曝光部，根据用于形成目标形成图形的加工用图形数据，以规定的曝光量对附着在基板上的被蚀刻材料上的抗蚀剂进行直接描绘曝光；显影部，显影曝光过的上述抗蚀剂来形成抗蚀图形；蚀刻部，蚀刻上述被蚀刻材料构成形成图形；补正部，根据上述抗蚀图形的形状与目标抗蚀图形的形状的差异、上述形成图形的形状与上述目标形成图形的形状的差异、成为上述差异的主要原因的成分中的任一个或任意的组合，来补正上述加工用图形数据和/或上述规定的曝光量。