[发明专利]光致抗蚀剂剥离液组合物及使用光致抗蚀剂剥离液组合物的光致抗蚀剂的剥离方法

摘要

本发明提供光致抗蚀剂剥离液组合物，该光致抗蚀剂剥离液组合物在半导体元件和液晶显示元件等的制造工序中，对在湿蚀刻或者干蚀刻工序中发生变质或者固化的光致抗蚀剂，使用浸渍法、喷雾法或者单片方式，在低温、短时间内容易剥离，对设置有暴露于剥离溶液中的金属配线，特别是含铜的多重接合结构的金属膜质和无机材料层的基片的防蚀性优良，在后续的工序中，不需要使用像异丙醇、二甲亚砜那样的有机溶剂，仅用水就可进行冲洗，并且，不添加烷基吡咯烷酮化合物、砜化合物或者亚砜化合物、苯并三唑化合物，其是环境亲和的。

主权项

1、光致抗蚀剂剥离液组合物，其特征在于，相对组合物的总量，其含有5重量％～50重量％的有机胺化合物、5重量％～50重量％的乙二醇醚化合物、0.01重量％～1重量％的下述化学结构式1的化合物、0.1重量％～10重量％的防腐蚀剂和余量的去离子水，化学结构式1式中，X是C或者N，至少一个是N，其中，R⁴、R⁵是氢原子、烷基、芳基、氨基、杂环、羰基、OH或者OR基，R分别表示烷基或者芳基。