[发明专利]光刻装置及集成电路制造方法有效
| 申请号： | 200410061804.9 | 申请日： | 2004-06-25 |
| 公开（公告）号： | CN1577103A | 公开（公告）日： | 2005-02-09 |
| 发明（设计）人： | P·R·巴特雷;W·J·博克斯;D·J·P·A·弗兰肯;B·A·J·卢蒂克惠斯;E·A·F·范德帕施;M·W·M·范德维斯特;M·J·M·恩格尔斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 肖春京 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及一种光刻投影装置(1)。该投影装置包括用于支撑构图装置例如中间掩模版的支撑结构。当通过投影光束PB照射中间掩模版时，利用中间掩模版上的图案对投影光束进行构图。投影系统PL构成和设置为使中间掩模版的受照射部分成像到基底的目标部分上。存在有用于确定中间掩模版相对于投影系统(PL)的空间位置的组件。该组件包括一测量单元，该测量单元具有足以确定所需空间位置的数量的传感器。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 集成电路 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.光刻投影装置(1)，包括：用于提供辐射投影光束的辐射系统；用于支撑构图装置的支撑结构(MT)，所述构图装置用于根据所需的图案对投影光束(PB)构图；用于将带图案的光束投影到基底的目标部分上的投影系统(PL)；以及用于确定所述构图装置相对于所述投影系统(PL)的空间位置的组件，所述组件包括一测量单元，该测量单元具有足以确定所述空间位置的数量的传感器，其特征在于所述数量的传感器安装在投影系统(PL)上。
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