[发明专利]阴极溅射设备

摘要

本发明涉及一种为了在真空中涂覆基底而阴极溅射的设备，该设备包括载体和冷却系统；载体用于待溅射的材料，基本上为管形并可绕其纵轴线旋转；冷却系统在与设在载体之外的冷却装置相结合时适于使冷却介质在管形的载体中循环；该设备还包括用于连接供电回路的装置和用于使管形的可旋转的载体绕其纵轴线旋转的驱动装置。所述设备还提供磁系统，该磁系统沿纵轴线伸展用于对于设置在由待溅射的材料所制成的靶附近的等离子进行磁包围，该磁系统由极靴、用渗磁的金属制成的磁轭及磁化装置组成，该磁化装置适于在磁化系统中产生磁通，磁系统的极性的磁极设在管形的可旋转的载体之外并框架地包围该载体，并在管形的可旋转的靶载体中设有对应的磁极。

主权项

1.用于在真空中对于基底进行涂覆而进行阴极溅射的设备(8)，该设备包括一个载体(2)、一个磁系统和一个冷却系统；所述载体(2)用于待溅射的材料，基本上为管形，并且可绕其纵轴线旋转；所述磁系统沿纵轴线伸展，用于对于设置在由待溅射的材料制成的靶(2)附近的等离子进行磁包围，其中该磁系统由极靴(9，10)和由渗磁的金属制成的磁轭(12，13)以及磁化装置(5)组成，这些磁化装置适于在磁化系统中产生磁通；所述冷却系统在与一个设在载体之外的冷却装置相结合的情况下适于使冷却介质在管形的载体中循环；该设备还包括一个用于连接一个供电回路的装置和一个用于使管形的、可旋转的载体绕其纵轴线旋转的驱动装置，其特征在于，磁系统的一个极性的磁极设在管形的、可旋转的载体(2)之外并包围该载体。