[发明专利]离子注入电铸结构材料及其制备方法无效
| 申请号： | 200410089649.1 | 申请日： | 2004-10-29 |
| 公开（公告）号： | CN1611632A | 公开（公告）日： | 2005-05-04 |
| 发明（设计）人： | 新田耕司;稻泽信二;羽贺刚 | 申请（专利权）人： | 住友电气工业株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/48 | 分类号： | C23C14/48;G03F7/039 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 封新琴;巫肖南 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明披露了由电铸体制成的离子注入结构材料，该电铸体通过电铸形成并具有通过将离子注入到电铸体内而形成的离子注入层。在电铸结构材料中，在比离子注入层深的位置调制了微结构，甚至在比离子注入层深的位置，硬度变得比原先的电铸体更高。 | ||
| 搜索关键词： | 离子 注入 电铸 结构 材料 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种离子注入电铸结构材料，其由通过电铸形成的电铸体制成，该离子注入电铸结构材料具有通过将离子注入电铸体中形成的离子注入层。
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