[发明专利]清洗方法、清洗装置及电光学装置无效
| 申请号： | 200410100021.7 | 申请日： | 2004-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN1623688A | 公开（公告）日： | 2005-06-08 |
| 发明（设计）人： | 细田登志子;四谷真一 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | B08B3/08 | 分类号： | B08B3/08;B08B3/12;C23C14/04;C23C14/24 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 李香兰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供可以容易地除去附着在低分子有机EL装置的蒸镀掩模上的有机物的清洗方法及清洗装置。附着在低分子有机EL装置的蒸镀掩模上的有机物的清洗装置(1)，具有将蒸镀掩模(140)用吡咯烷酮的衍生物处理的第1载物台(10)、对蒸镀掩模(140)进行水漂洗处理的第2载物台(20)、对蒸镀掩模(140)进行流水漂洗处理的第3载物台(30)、将蒸镀掩模(140)用乙醇处理的第4载物台(40)、使蒸镀掩模(140)干燥的第5载物台(50)、向各载物台依次搬送蒸镀掩模(140)的搬送机构(5)。作为吡咯烷酮的衍生物，优选采用N－甲基－2－吡咯烷酮。 | ||
| 搜索关键词： | 清洗 方法 装置 光学 | ||
【主权项】：
1.一种清洗方法，其特征是，使用吡咯烷酮的衍生物来清洗附着在电光学装置的制造装置上的有机物。
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