[发明专利]旋涂装置以及使用此旋涂装置制造的涂层基板无效

专利信息
申请号: 200480001545.9 申请日: 2004-08-20
公开(公告)号: CN1717728A 公开(公告)日: 2006-01-04
发明(设计)人: 姜太植;韩美英;李成根;张城勋;洪瑛晙 申请(专利权)人: 株式会社LG化学
主分类号: G11B7/26 分类号: G11B7/26
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人: 黄启行;谢丽娜
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 在使用常规旋涂装置在基板上旋涂涂覆溶液时,在基板的外侧边缘处常常产生所谓跳高滑雪台现象。根据本发明的旋涂装置包括环形部件或多边形部件。环形部件或多边形部件的上部分具有向下并向外延伸的倾斜部分,并且倾斜部分的内侧部分靠近或接触基板的外侧边缘。环形部件或多边形部件的内侧表面向下并向外倾斜。当使用该旋涂装置用涂覆溶液来涂覆基板的表面时,能够减少在基板的外侧边缘处产生的跳高滑雪台现象,并且能够防止因涂覆溶液引起的基板污染。
搜索关键词: 装置 以及 使用 制造 涂层
【主权项】:
1.一种包括环形部件或多边形部件的旋涂装置,其中,所述环形部件或多边形部件的上部分具有向下且向外延伸的倾斜部分,且所述倾斜部分的内侧部分靠近或接触基板的外侧边缘。
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