[发明专利]用于掩模修复的电子束处理技术无效
| 申请号： | 200480002281.9 | 申请日： | 2004-01-16 |
| 公开（公告）号： | CN1739066A | 公开（公告）日： | 2006-02-22 |
| 发明（设计）人： | D·K·斯图尔特;J·D·小卡西;J·贝蒂;C·R·穆西尔;S·伯格;S·J·西布兰迪 | 申请（专利权）人： | FEI公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G21K5/10;C23F1/00;C23F1/02;C23F3/00;C03C15/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 张雪梅;梁永 |
| 地址： | 美国俄*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 通过在刻蚀气体存在情况下将电子束入射到衬底而使镓污染衬底恢复透射率。对于较高的镓注入浓度，透明度可以基本恢复而不减少衬底厚度。对于较低的镓注入剂量，透射率恢复到100％，虽然衬底厚度减少了。本发明适用于光刻掩模的修复。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 修复 电子束 处理 技术 | ||
【主权项】：
1.一种恢复具有减少石英材料透射率的注入镓的石英材料透明度的方法，该方法包含：将气体导向石英材料的镓注入部分；以及将电子束导向到石英材料的镓注入部分，电子束中的电子剂量使得石英材料厚度基本不变并且石英材料透射率显著增加。
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