[发明专利]溅射靶、光信息记录介质用薄膜及其制造方法

摘要

本发明涉及一种溅射靶，其特征在于，含有以满足下式的氧化锌为主要成分的化合物：A、B分别为不相同的3价及以上的阳性元素，其价数分别为Ka、Kb时，A_XB_YO_(KaX+KbY)/2(ZnO)_m，1＜m，X≤m，0＜Y≤0.9，X+Y＝2，且相对密度为80％及以上。它是不含ZnS和SiO₂的ZnO基体的溅射靶，能在通过溅射而形成膜时，减小对基板加热等的影响，高速成膜，能把膜厚调整得薄，还能减少溅射时产生的粒子(発塵)及球状夹杂物，减小质量的偏差，提高量产性，且结晶粒微小，能获得具有80％以上，特别是90％以上的高密度的溅射靶。

主权项

1.一种溅射靶，其特征在于，含有以满足下式的氧化锌为主要成分的化合物：A、B分别为不相同的3价及以上的阳性元素，其价数分别为Ka、Kb时，AXBYO(KaX+KbY)/2(ZnO)m，1＜m，X≤m，0＜Y≤0.9，X+Y＝2，且相对密度为80％及以上。