[发明专利]溅射靶及其制造方法和光信息记录介质用薄膜及其制造方法有效
| 申请号： | 200480005978.1 | 申请日： | 2004-02-03 |
| 公开（公告）号： | CN1756858A | 公开（公告）日： | 2006-04-05 |
| 发明（设计）人： | 细野秀雄;植田和茂;矢作政隆;高见英生 | 申请（专利权）人： | 株式会社日矿材料 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;G11B7/24;G11B7/26 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 樊卫民;郭国清 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及一种溅射靶，其特征在于，含有以氧化锌作为主要成分的化合物，并包含硫族化锌，且相对密度为90％以上，体电阻值为0.1Ωcm以下，所述化合物在A、B分别为不同的三价以上的阳性元素、其价数分别为Ka、Kb时，满足AxBYO (KaX+KbY)/2(ZnO) m、0＜X＜2、Y＝2－X、1≤m。得到通过溅射形成膜时可以减少向基板的加热等的影响，能够高速成膜，可将膜厚调整得很薄，能够减少溅射时产生的颗粒(扬尘)或结核，质量偏差少地提高量产性，并且晶粒微细的高密度的溅射靶及其制造方法、以及特别适用于作为保护膜的光信息记录介质用薄膜及其制造方法。 | ||
| 搜索关键词： | 溅射 及其 制造 方法 信息 记录 介质 薄膜 | ||
【主权项】：
1.一种溅射靶，其特征在于，含有以氧化锌为主要成分的化合物和硫族化锌，所述化合物在A、B分别为不同的三价以上的阳性元素、其价数分别为Ka、Kb时，满足AxBYO(KaX+KbY)/2(ZnO)m、0＜X＜2、Y＝2-X、1≤m。
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