[发明专利]光学元件、光学系统、激光器装置、曝光设备、掩模检测装置和高分子晶体加工设备有效

专利信息
申请号: 200480007623.6 申请日: 2004-03-22
公开(公告)号: CN1761907A 公开(公告)日: 2006-04-19
发明(设计)人: 三轮聪 申请(专利权)人: 株式会社尼康
主分类号: G02B27/00 分类号: G02B27/00;G02F1/37;H01S3/02;G03F7/20;G03F1/08;H01L21/027;B23K26/02
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人: 车文;樊卫民
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 柱状透镜11a和11b的母线方向垂直于光轴且彼此垂直。结果,组合柱状透镜11a和11b的光学系统可以实现与球面透镜相同的光学效果。此系统的特征在于如下事实:即因为各个透镜为柱状透镜,所以即使透镜在母线方向移动,光轴也没有移位。例如,在透镜上的划伤变得显著的情况下,可以通过移动机构(图中未示出)例如配备有测微仪的平台将透镜在母线方向(箭头所示的方向)上移动并利用透镜的未使用部分而延长激光器装置的使用寿命。
搜索关键词: 光学 元件 光学系统 激光器 装置 曝光 设备 检测 高分子 晶体 加工
【主权项】:
1.一种光学元件,包括多个柱状透镜,其中这些柱状透镜设置成使得这些透镜的母线方向彼此交叉,因而产生透镜作用,并且使得各个透镜可在各自的母线方向上移动。
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