[发明专利]高频等离子体射束源及喷射表面的方法有效
申请号: | 200480015920.5 | 申请日: | 2004-04-08 |
公开(公告)号: | CN1802724A | 公开(公告)日: | 2006-07-12 |
发明(设计)人: | R·贝克曼 | 申请(专利权)人: | 莱博德光学有限责任公司 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 杨凯;张志醒 |
地址: | 德国阿*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | 本发明涉及高频等离子体射束源(1),带有:等离子体室(3);电气装置(8、9),将电压施加在该高频等离子体射束源(1)上,以激发和维持该等离子体;从等离子体空间(3)引出等离子体射束(I)的装置(4);以及用引出网格(4)与真空室(7)分隔的出口。等离子体射束(I)从高频等离子体射束源(1)产生,基本上呈发散的喷射特性。本发明还涉及用高频等离子体射束源的等离子体射束(I)喷射一个表面的方法,其中所述等离子体射束(I)是发散的。 | ||
搜索关键词: | 高频 等离子体 射束源 喷射 表面 方法 | ||
【主权项】:
1.一种高频等离子体射束源,带有:等离子体用的等离子体室(3);电气装置(8、9),用以激发和维持等离子体;处于高频电位的引出网格(4),用以从等离子体室(3)引出等离子体射束(I);以及出口,尤其是对着真空室(7)的出口,其中所述引出网格(4)布置在该出口的范围内,其特征在于,所述等离子体射束(I)基本上为发散的。
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