[发明专利]正型抗蚀剂组合物及使用其形成抗蚀图案的方法有效
申请号: | 200480018215.0 | 申请日: | 2004-06-28 |
公开(公告)号: | CN1813222A | 公开(公告)日: | 2006-08-02 |
发明(设计)人: | 林亮太郎;竹下优;岩井武 | 申请(专利权)人: | 东京应化工业株式会社 |
主分类号: | G03F7/039 | 分类号: | G03F7/039;C08F220/18 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 程金山 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 一种正型抗蚀剂组合物,该抗蚀剂组合物包括在酸作用下显示增加的碱溶解度的树脂组分(A)、通过曝光生成酸的酸生成剂组分(B)和有机溶剂(C)。组分(A)具有:(i)结构单元(a1),其含有可酸解离的、溶解抑制基团并且衍生自(甲基)丙烯酸酯,(ii)结构单元(a2),其含有比结构单元(a1)中含有的可酸解离的、溶解抑制基团更不容易解离的可酸解离的、溶解抑制基团并且衍生自(甲基)丙烯酸酯,和(iii)结构单元(a3),其含有内酯官能团并且衍生自(甲基)丙烯酸酯。 | ||
搜索关键词: | 正型抗蚀剂 组合 使用 形成 图案 方法 | ||
【主权项】:
1.一种正型抗蚀剂组合物,其包含:在酸作用下显示增加的碱溶解度的树脂组分(A),所述的组分(A)包含:(i)结构单元(a1),其含有可酸解离的、溶解抑制基团并且衍生自(甲基)丙烯酸酯,(ii)结构单元(a2),其含有比结构单元(a1)中含有的可酸解离的、溶解抑制基团更不容易解离的可酸解离的、溶解抑制基团,并且衍生自(甲基)丙烯酸酯,和(iii)结构单元(a3),其含有内酯官能团并且衍生自(甲基)丙烯酸酯,通过曝光生成酸的酸生成剂组分(B),和有机溶剂(C)。
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