[发明专利]荧光X射线分析装置有效
| 申请号： | 200480023453.0 | 申请日： | 2004-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN1836156A | 公开（公告）日： | 2006-09-20 |
| 发明（设计）人： | 住居弘咨;青柳光一 | 申请（专利权）人： | 理学电机工业株式会社 |
| 主分类号： | G01N23/223 | 分类号： | G01N23/223 |
| 代理公司： | 北京三幸商标专利事务所 | 代理人： | 刘激扬 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的课题在于提供一种荧光X射线分析装置，该荧光X射线分析装置对处于惰性气体气氛中的试样进行分析，分光室不由惰性气体置换即可，同时不与试样室连通，并且可获得足够的强度的2次X射线，另外，隔壁的寿命延长。该装置包括接纳有试样(4)的试样室(1)；照射室(2)，该照射室(2)接纳有对试样(4)照射1次X射线(6)的X射线源(7)，该照射室(2)与上述试样室(1)连通；分光室(3)，该分光室(3)接纳有对从试样(4)产生的2次X射线(8)分光而对其检测的检测机构(9)；隔壁(10)，该隔壁(10)按照将上述照射室(2)和分光室(3)分隔的方式设置，使上述2次X射线(8)通过；以惰性气体对上述试样室(1)和照射室(2)进行置换，并且对上述分光室(3)进行真空排气。 | ||
| 搜索关键词： | 荧光 射线 分析 装置 | ||
【主权项】：
1.一种荧光X射线分析装置，该荧光X射线分析装置包括：接纳有试样的试样室；照射室，该照射室接纳有对试样照射1次X射线的X射线源，该照射室与上述试样室连通；分光室，该分光室接纳有对从试样产生的2次X射线分光而对其检测的检测机构；隔壁，该隔壁按照将上述照射室和分光室分隔的方式设置，使上述2次X射线通过；以惰性气体对上述试样室和照射室进行置换，并且对上述分光室进行真空排气。
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