[发明专利]用于微电子设备的剥离和清洁组合物有效
| 申请号： | 200480023835.3 | 申请日： | 2004-07-26 |
| 公开（公告）号： | CN1839355A | 公开（公告）日： | 2006-09-27 |
| 发明（设计）人： | 约瑟夫·M·伊拉尔迪;戴维·C·斯基;肖恩·M·凯恩;卡伦·E·特罗瓦利 | 申请（专利权）人： | 马林克罗特贝克公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42;H01L21/00;C11D11/00;C11D7/04;C11D7/32;C11D7/06 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 封新琴;巫肖南 |
| 地址： | 美国密*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 含水清洁组合物和使用该清洁组合物清洗微电子基底的方法，其中所述组合物能够基本完全清洁该基底并且对该基质的金属元素基本上不产生金属腐蚀。本发明的含水清洁组合物含有：(a)水，(b)铵离子和季铵离子中的至少一种，以及(c)次磷酸根离子(H2PO2－)和/或亚磷酸根离子(HPO32－)中的至少一种。所述组合物还可以含有氟离子。任选地，该组合物可以含有其它成分，例如有机溶剂、氧化剂、表面活性剂、防腐剂和金属络合剂。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 微电子 设备 剥离 清洁 组合 | ||
【主权项】：
1.一种清洗微电子基底的含水组合物，其包括以下成分：(a)水，(b)铵离子和季铵离子中的至少一种，以及(c)次磷酸根离子(H2PO2-)和亚磷酸根离子(HPO32-)中的至少一种。
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