[发明专利]真空成膜方法、装置、以及用其制造的滤光片无效
| 申请号： | 200480025541.4 | 申请日： | 2004-08-30 |
| 公开（公告）号： | CN1846013A | 公开（公告）日： | 2006-10-11 |
| 发明（设计）人： | 能势功一;山辺真一;床本勲;堀崇展;生水出淳史;近藤隆彦 | 申请（专利权）人： | 新明和工业株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/50;G02B5/28 |
| 代理公司： | 上海新天专利代理有限公司 | 代理人： | 衷诚宣 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的真空成膜方法以及装置，在设在真空室(1)内且流路(7f)、(7g)、(7i)内流入规定的载热溶液的基体材料支持构件(6a)上安装基体材料，使所述真空室内保持实质上的真空状态，在所述真空室的内部，从2个或2个以上的蒸发源使蒸发材料蒸发，以规定的顺序使该蒸发的所述蒸发材料扩散到所述真空室的内部，使该扩散的所述蒸发材料蒸镀在所述基体材料的蒸镀面上，使由所述蒸发材料构成的多层膜在所述基体材料的蒸镀面上形成，在这样的成膜方法中，将防冻溶液用作流入所述基体材料支持构件具备的流路内的所述规定的载热溶液。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 方法 装置 以及 制造 滤光 | ||
【主权项】：
1.一种真空成膜方法，在设置于真空室内且流路内流入规定的载热溶液的基体材料支持构件上安装基体材料，使所述真空室内保持实质上的真空状态，在所述真空室的内部，从2个或2个以上的蒸发源使蒸发材料蒸发，以规定的顺序使该蒸发的所述蒸发材料扩散到所述真空室的内部，使该扩散的所述蒸发材料蒸镀在所述基体材料的蒸镀面上，使由所述蒸发材料构成的多层膜在所述基体材料的蒸镀面上形成，其特征在于，将防冻溶液用作流入所述基体材料支持构件具备的流路内的所述规定的载热溶液。
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