[发明专利]光刻投影装置、气体净化方法、器件制造方法以及净化气体供应系统有效
| 申请号： | 200480026605.2 | 申请日： | 2004-07-20 |
| 公开（公告）号： | CN1853142A | 公开（公告）日： | 2006-10-25 |
| 发明（设计）人： | A·J·范德内特;J·斯佩格尔曼;J·J·范布拉格特 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司;诚实公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 赵辛 |
| 地址： | 荷兰费*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种投影装置(1)包括：用于支撑图案形成装置的支撑结构，该图案形成装置用具根据所需图案对投影光束进行图案化。该装置设有用于固定衬底的衬底台(WT)，用于将图案化光束投影到衬底的目标部分上的投影系统(PL)。该装置还设有用于在光刻投影装置的元件表面附近提供净化气体的净化气体供应系统(100)。该净化气体供应系统包括净化气体混合物生成器(120)。该净化气体混合物生成器(120)配置为生成包括至少一种净化气体和湿气的净化气体混合物。净化气体混合物生成器(120)设有配置为用于向净化气体加入湿气的加湿器件，以及连接于净化气体混合物生成器用于在表面附近供应净化气体混合物的净化气体混合物出口(130－133)。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 投影 装置 气体 净化 方法 器件 制造 以及 供应 系统 | ||
【主权项】：
1.一种光刻投影装置(1)，包括：-用于提供辐射投影光束的辐射系统；-用于支撑图案形成装置的支撑结构，所述图案形成装置用于根据所需图案使所述投影光束图案化；-用于固定衬底的衬底台(WT)；-用于将所述图案化的投影光束投影到所述衬底的目标部分上的投影系统(PL)；以及-至少一个用于向所述光刻投影装置的至少部分提供净化气体的净化气体供应系统(100)；所述净化气体供应系统包括：-净化气体混合物生成器(120)，其包括配置为向净化气体增加湿气的加湿器件(150)，所述净化气体混合物生成器(120)配置为用于产生净化气体混合物，所述净化气体混合物包括至少一种净化气体和所述湿气；以及-连接所述净化气体混合物生成器上的用于将所述净化气体混合物供应到所述至少部分光刻投影装置的净化气体混合物出口(130-132)。
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