[发明专利]抗蚀剂层积体的形成方法无效
| 申请号： | 200480034295.9 | 申请日： | 2004-11-15 |
| 公开（公告）号： | CN1882882A | 公开（公告）日： | 2006-12-20 |
| 发明（设计）人： | 荒木孝之;高明天;佐藤数行;大桥美保子;岸川洋介 | 申请（专利权）人： | 大金工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/11 | 分类号： | G03F7/11;C08F216/12;C09D133/14 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 丁香兰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 抗蚀剂层积体的形成方法，该抗蚀剂层积体在利用真空紫外区域的光线的照相平版法工艺中具有充分的防反射效果，并且即使在显影工艺中也具有充分的显影特性。光致抗蚀剂层积体的形成方法包括工序(I)，在基板上形成光致抗蚀剂层(L1)；和工序(II)，在光致抗蚀剂层(L1)上通过涂布含有含氟聚合物(A)的涂层组合物形成防反射层(L2)，所述含氟聚合物(A)具有亲水性基团Y，其特征为，含氟聚合物(A)具有由含亲水性基团Y的含氟乙烯型单体衍生的结构单元，并且，对于该含氟聚合物(A)，(i)亲水性基团Y含有pKa小于等于11的酸性OH基团；(ii)含氟率大于等于50质量％；以及(iii)100克含氟聚合物(A)中亲水性基团Y的摩尔数大于等于0.14。 | ||
| 搜索关键词： | 抗蚀剂 层积 形成 方法 | ||
【主权项】：
1、光致抗蚀剂层积体的形成方法，其包括工序(I)，在基板上形成光致抗蚀剂层(L1)；和工序(II)，在光致抗蚀剂层(L1)上通过涂布含有含氟聚合物(A)的涂层组合物形成防反射层(L2)，所述含氟聚合物(A)具有亲水性基团Y，其特征为，含氟聚合物(A)具有由含亲水性基团Y的含氟乙烯型单体衍生的结构单元，并且，在该含氟聚合物(A)中，(i)亲水性基团Y含有pKa小于等于11的酸性OH基团；(ii)含氟率大于等于50质量％；以及(iii)100克含氟聚合物(A)中亲水性基团Y的摩尔数大于等于0.14。
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