[发明专利]大面积光刻的装置和方法有效
| 申请号： | 200480036055.2 | 申请日： | 2004-11-03 |
| 公开（公告）号： | CN1890604A | 公开（公告）日： | 2007-01-03 |
| 发明（设计）人： | 巴巴克·海德瑞;马奇·贝克 | 申请（专利权）人： | 奥博杜卡特股份公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王永刚 |
| 地址： | 瑞典*** | 国省代码： | 瑞典;SE |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了从具有结构化的表面的模板(10)上向承载可辐射聚合的流体(14)表面层的衬底(12)转移图案的设备和方法。所述设备包括具有相对的表面(104，105)的第一主体部分(101)和第二主体部分(102)、调节所述主体部分之间间隔(115)的装置、在所述结构化的表面面向所述表面层的情况下在所述间隔中以互相平行的接合方式支持所述模板和衬底的支持装置(106)、设计成向所述间隔中发射辐射的辐射源(110)。空腔(115)的第一壁包括被设计成接合所述模板或衬底的柔性膜(113)，并且提供装置(114，116)向所述空腔中存在的介质施加可调节的过压，从而在衬底和模板间的整个接触表面上获得力的均匀分布。 | ||
| 搜索关键词： | 大面积 光刻 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种从具有结构化的表面的模板向承载可辐射聚合的流体表面层的衬底转移图案的设备，所述设备包括具有相对的表面的第一主体部分和第二主体部分、调节所述主体部分之间间隔的装置、在所述结构化的表面面向所述表面层的情况下在所述间隔中以互相平行的接合方式支持所述模板和衬底的支持装置、设计用来向所述间隔中发射辐射的辐射源、第一壁包括设计用来接合所述模板或衬底的柔性膜的空腔、以及向所述空腔中存在的介质施加可调节的过压的装置。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于奥博杜卡特股份公司，未经奥博杜卡特股份公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200480036055.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
