[发明专利]测量光学材料的双折射的系统和方法无效
申请号: | 200480037088.9 | 申请日: | 2004-11-29 |
公开(公告)号: | CN1894568A | 公开(公告)日: | 2007-01-10 |
发明(设计)人: | R·W·夏普斯 | 申请(专利权)人: | 康宁股份有限公司 |
主分类号: | G01J4/00 | 分类号: | G01J4/00 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 钱慰民 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本文揭示了一种系统和方法,用于通过测量并分析光学材料(例如,玻璃板)中的双折射(例如,应力导致的双折射,固有双折射)来确定该光学材料的质量。该方法是一种扫描技术,其中将双折射传感器设置成第一光学状态,然后该双折射传感器沿某一方向以恒定的速度在玻璃板上移动,与此同时以高数据速率进行第一功率透射测量。在此次移动结束时,将双折射传感器设置成第二光学状态,然后以相同的速度在玻璃板上往回移动,与此同时进行第二功率透射测量。重复该过程,其重复次数与双折射传感器中的光学状态的数目相同。然后,计算机用功率透射测量的分布图来计算双折射值,以便确定该玻璃板的质量。 | ||
搜索关键词: | 测量 光学材料 双折射 系统 方法 | ||
【主权项】:
1.一种用于测量光学材料中的双折射的方法,所述方法包括如下步骤:将双折射传感器设置成某一光学状态,并且使所述双折射传感器在预定的方向上按基本上恒定的速度在所述光学材料上移动,与此同时在所述光学材料上多个分立位置的每一处进行功率透射测量;重复所述设置步骤预定的次数,其中每一次所述双折射传感器都被设置成预定数目的光学状态之一,并且在预定的方向上按基本上恒定的速度在所述光学材料上移动,与此同时在所述光学材料上多个分立位置的每一处进行功率透射测量;并且用所述光学材料上每一个分立位置处测得的功率透射测量结果的组合来计算所述光学材料上各分立位置的双折射值。
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