[发明专利]光学记录介质及其生产方法、溅射靶、光学记录介质的使用方法和光学记录装置无效
申请号: | 200480039879.5 | 申请日: | 2004-11-08 |
公开(公告)号: | CN1902058A | 公开(公告)日: | 2007-01-24 |
发明(设计)人: | 三浦裕司;伊藤和典;针谷真人;日比野荣子;真贝胜;大仓浩子 | 申请(专利权)人: | 株式会社理光 |
主分类号: | B41M5/26 | 分类号: | B41M5/26;C23C14/34;G11B7/24;G11B7/004 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 宋莉;杨梧 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明的目的是提供光学记录介质等,其适应于较高密度和DVD的8倍或更大的较高速率记录(约28m/秒或更高),并且显示出优秀的重复和保存性能。为此,提供光学记录介质,其包括基底和记录层,其中信息的记录、重现、擦除和重写的至少一种是通过记录层上标记处的可逆相变而进行的,标记处的可逆相变是通过激光照射在晶态和非晶态之间产生的,在激光照射的行进方向上各个标记的长度为0.4μm或更小,并且该记录层具有由式:InαSbβ表示的组成,其中α和β是各个元素的原子百分数;0.73≤β/(α+β)≤0.90,α+β=100,或具有由式:MγInαSbβ表示的组成,其中M代表除In和Sb之外的元素或含有两种或多种除In和Sb之外的元素的元素组合;α和β是各个元素的原子百分数,γ是各个元素的原子百分数或各个元素的原子百分数总和;0.73≤β/(α+β)≤0.90,0<γ<α,α+β+γ=100。 | ||
搜索关键词: | 光学 记录 介质 及其 生产 方法 溅射 使用方法 装置 | ||
【主权项】:
1、一种光学记录介质,其包括:基底,和记录层,其中信息的记录、重现、擦除和重写的至少一种是通过记录层上标记处的可逆相变而进行的,通过激光照射在晶态和非晶态之间产生在标记处的可逆相变,在激光照射的行进方向上各个标记的长度为0.4μm或更小,并且记录层具有由式InαSbβ表示的组成,其中α和β是各个元素的原子百分数;0.73≤β/(α+β)≤0.90,α+β=100。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社理光,未经株式会社理光许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200480039879.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:用于提高免役力的藏补药及其制备方法
- 下一篇:一种铽基非晶合金及其制备方法