[发明专利]光学记录介质及其生产方法、溅射靶、光学记录介质的使用方法和光学记录装置无效

专利信息
申请号: 200480039879.5 申请日: 2004-11-08
公开(公告)号: CN1902058A 公开(公告)日: 2007-01-24
发明(设计)人: 三浦裕司;伊藤和典;针谷真人;日比野荣子;真贝胜;大仓浩子 申请(专利权)人: 株式会社理光
主分类号: B41M5/26 分类号: B41M5/26;C23C14/34;G11B7/24;G11B7/004
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 宋莉;杨梧
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明的目的是提供光学记录介质等,其适应于较高密度和DVD的8倍或更大的较高速率记录(约28m/秒或更高),并且显示出优秀的重复和保存性能。为此,提供光学记录介质,其包括基底和记录层,其中信息的记录、重现、擦除和重写的至少一种是通过记录层上标记处的可逆相变而进行的,标记处的可逆相变是通过激光照射在晶态和非晶态之间产生的,在激光照射的行进方向上各个标记的长度为0.4μm或更小,并且该记录层具有由式:InαSbβ表示的组成,其中α和β是各个元素的原子百分数;0.73≤β/(α+β)≤0.90,α+β=100,或具有由式:MγInαSbβ表示的组成,其中M代表除In和Sb之外的元素或含有两种或多种除In和Sb之外的元素的元素组合;α和β是各个元素的原子百分数,γ是各个元素的原子百分数或各个元素的原子百分数总和;0.73≤β/(α+β)≤0.90,0<γ<α,α+β+γ=100。
搜索关键词: 光学 记录 介质 及其 生产 方法 溅射 使用方法 装置
【主权项】:
1、一种光学记录介质,其包括:基底,和记录层,其中信息的记录、重现、擦除和重写的至少一种是通过记录层上标记处的可逆相变而进行的,通过激光照射在晶态和非晶态之间产生在标记处的可逆相变,在激光照射的行进方向上各个标记的长度为0.4μm或更小,并且记录层具有由式InαSbβ表示的组成,其中α和β是各个元素的原子百分数;0.73≤β/(α+β)≤0.90,α+β=100。
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