[发明专利]显影装置及显影方法有效
申请号: | 200480041996.5 | 申请日: | 2004-12-24 |
公开(公告)号: | CN101124658A | 公开(公告)日: | 2008-02-13 |
发明(设计)人: | 山本太郎;吉原孝介;京田秀治;竹口博史;大河内厚 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | H01L21/027 | 分类号: | H01L21/027;G03F7/30 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 温大鹏 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种显影装置及显影方法,对应抗蚀剂种类或抗蚀剂图形,调整显影液的温度。利用显影液喷嘴扫描涂敷显影液,所述显影液喷嘴具有基板有效区域的宽度对应的长度的狭缝状喷出口。在显影液一定时间保持盛放在基板上的状态后,利用稀释液喷嘴扫描涂敷稀释液。由此,显影反应实质上停止,并且抗蚀剂溶解成份扩散。根据显影液的温度调整迅速溶解所希望量的抗蚀剂,另一方面,通过在既定时间供给稀释液,在抗蚀剂溶解成份产生不良影响前停止显影,由此可以获得线宽均一的图形,也提高生产量。 | ||
搜索关键词: | 显影 装置 方法 | ||
【主权项】:
1.一种显影装置,其特征在于,具备:基板保持部,大致水平地保持具有曝光了的抗蚀剂的基板;显影液供给喷嘴,形成有喷出口,该喷出口在与基板有效区域的宽度大致相等或更长的长度上延伸,用于向基板供给显影液;稀释液供给喷嘴,形成有喷出口,该喷出口在与基板有效区域的宽度大致相等或更长的长度上延伸,用于向基板供给稀释液;温度调整部,用于对应显影处理的基板上的抗蚀剂的种类或限定抗蚀剂图形的几何学特征而调整应从显影液供给喷嘴供给的显影液的温度;驱动装置,用于使显影液供给喷嘴和稀释液供给喷嘴从基板的一端移动至另一端;和用于以下述方式控制稀释液供给喷嘴动作的机构,即,在从显影液供给喷嘴向上述基板表面供给显影液后,在既定的时机向基板表面供给稀释液。
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H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
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