[发明专利]图形曝光方法以及图形曝光装置无效
| 申请号： | 200510008894.X | 申请日： | 2005-02-24 |
| 公开（公告）号： | CN1677237A | 公开（公告）日： | 2005-10-05 |
| 发明（设计）人： | 押田良忠;内藤芳达;铃木光弘;内山文二;山口刚 | 申请（专利权）人： | 日立比亚机械股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B26/10 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 | 代理人： | 张敬强 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种生产周期短且廉价的装置、并且不要运行成本的图形曝光方法以及图形曝光装置。对于从多个半导体激光器分别出射的多束激光1a的出射端(5)，一个配置在与多边形镜子(27)的扫描方向相同的方向，另一个配置在与多边形镜子(27)的扫描方向交叉的方向。在该场合，使配置在与多边形镜子(27)的扫描方向交叉的方向的出射端(15)的排列间距等于曝光图形的分辨率。该场合，使激光的波长在410nm以下即可。 | ||
| 搜索关键词： | 图形 曝光 方法 以及 装置 | ||
【主权项】：
1.一种图形曝光方法，使从光源出射的多束出射光与工件相对移动、并利用所述出射光对图形进行曝光，其特征在于，以互不相同的所述出射光对任意曝光场所进行多次曝光。
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