[发明专利]高数值孔径光刻成像偏振控制装置无效
| 申请号： | 200510011240.2 | 申请日： | 2005-01-24 |
| 公开（公告）号： | CN1645258A | 公开（公告）日： | 2005-07-27 |
| 发明（设计）人： | 余国彬;姚汉民;邢廷文;胡松;唐小萍 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B27/28 |
| 代理公司： | 北京科迪生专利代理有限责任公司 | 代理人： | 刘秀娟;成金玉 |
| 地址： | 610209*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 高数值孔径光刻成像偏振控制装置，包括椭球镜、光源、高强度高均匀照明部件、投影光刻物镜及硅片等，其特征在于：在投影光刻物镜的光瞳面位置，放置对成像光束可进行偏振控制的偏振光瞳器件，偏振光瞳器件使成像光束不受阻挡，改变了投影光学光刻成像光学系统的光瞳函数，以及光学系统的传递函数，把光刻成像调制成S偏振成像，进一步提高了成像质量。本发明的高数值孔径光刻成像偏振控制装置对光刻成像系统的成像特性进行了调制，提高了光刻成像对比度，进一步挖掘短波长高数值孔径投影光学光刻成像系统的光刻分辨力。 | ||
| 搜索关键词： | 数值孔径 光刻 成像 偏振 控制 装置 | ||
【主权项】：
1、高数值孔径光刻成像偏振控制装置，包括椭球镜(1)、光源(2)、均匀照明部件(3)、掩模板(4)、投影光刻物镜(5)、偏振光瞳器件(6)及硅片(7)，其特征在于：在投影光刻物镜(5)的光瞳面放置有对成像光束进行偏振调制的偏振光瞳器件(6)。
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