[发明专利]步进扫描投影光刻机中的杂散光原位检测方法有效

专利信息
申请号: 200510024229.X 申请日: 2005-03-07
公开(公告)号: CN1655064A 公开(公告)日: 2005-08-17
发明(设计)人: 郭立萍;王向朝 申请(专利权)人: 上海微电子装备有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G01M11/00
代理公司: 上海新天专利代理有限公司 代理人: 王敏杰
地址: 201203上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种步进扫描投影光刻机中杂散光的原位检测方法。通过四个狭缝刀口的准确定位在物面(即掩模面)上限定一个光斑并通过投影物镜成像在工件台上,能量传感器测得光斑像中心处光强为I0,依次完成M×N个光斑的测量,然后狭缝打开,测量上述测量点光强为I1,杂散光系数由公式(I1-I0)/I0计算,完成整个视场中杂散光测量,若杂散光超出曝光系统要求的指标,分析杂散光来源:利用特制掩模与两个狭缝刀口限定一光斑,此光斑经投影物镜成像,能量传感器测量像光斑内的光强分布,根据测得的光强分布分析杂散光是来自照明系统还是投影物镜。它解决现有方法均只能测量杂散光的大小,不能区分杂散光来源的技术问题,为采取消除杂散光措施提供了有效依据。
搜索关键词: 步进 扫描 投影 光刻 中的 散光 原位 检测 方法
【主权项】:
1、一种步进扫描投影光刻机中的杂散光原位检测方法,其特征在于:通过四个狭缝刀口的准确定位在物面(即掩模面)上限定一个光斑,此光斑通过投影物镜成像在工件台上,工件台上的能量传感器测得此光斑像的中心处的光强为I0,按照以上步骤依次完成M×N个光斑的测量,然后把狭缝打开,再次测量上述测量点的光强为I1,杂散光系数由公式(I1-I0)/I0计算,这样就完成了整个视场中杂散光的测量,如果杂散光超出曝光系统要求的指标,采用如下方法分析杂散光的来源:利用特制掩模与两个狭缝刀口限定一个光斑,此光斑经过投影物镜成像,工件台上的能量传感器测量像光斑内的光强分布,根据测得的光强分布分析杂散光是来自照明系统,还是来自投影物镜。
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