[发明专利]纳米压印用紫外光固化阳离子型刻蚀胶无效
| 申请号： | 200510043034.X | 申请日： | 2005-08-01 |
| 公开（公告）号： | CN1719338A | 公开（公告）日： | 2006-01-11 |
| 发明（设计）人： | 段玉岗;丁玉成;李涤尘;卢秉恒 | 申请（专利权）人： | 西安交通大学 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/039 |
| 代理公司： | 西安通大专利代理有限责任公司 | 代理人： | 罗笛 |
| 地址： | 710049*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明公开的纳米压印用紫外光固化阳离子型刻蚀胶，按重量百分比，其组成为：脂环族环氧10％～60％，有机硅环氧树脂0％～30％，乙烯基醚10％～40％，聚己内酯多元醇0％～20％，长链脂肪族环氧0％～15％，光引发剂1％～10％，助剂0％～8％，各组分的重量之和为100％，其中，光引发剂选自以下一种或一种以上的组合物：二芳基碘鎓磷酸盐、三芳基硫鎓六氟锑酸盐或三芳基硫鎓六氟砷酸盐，助剂包括有机硅烷类偶联剂、有机硅烷类流平剂、有机醇类或聚醚烷基共改性硅油消泡剂。本发明的刻蚀胶与目前微电子行业所使用的正性或负性胶相比较，具有无挥发性溶剂、低粘度、固化速度快、低收缩、高附着力、高抗蚀性，是纳米压印制造专用光固化刻蚀胶。 | ||
| 搜索关键词： | 纳米 压印 紫外 光固化 阳离子 刻蚀 | ||
【主权项】：
1.一种纳米压印用紫外光固化阳离子型刻蚀胶，按重量百分比，其组成为：脂环族环氧10％～60％有机硅环氧树脂0％～30％乙烯基醚10％～40％聚己内酯多元醇0％～20％长链脂肪族环氧0％～15％光引发剂1％～10％助剂0％～8％，各组分的重量之和为100％，其中，光引发剂选自以下一种或一种以上的组合物：二芳基碘鎓磷酸盐、三芳基硫鎓六氟锑酸盐或三芳基硫鎓六氟砷酸盐，助剂包括有机硅烷类偶联剂、有机硅烷类流平剂、有机醇类或聚醚烷基共改性硅油消泡剂。
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