[发明专利]一种具有在线清洗功能的磁控溅射靶及其应用方法

摘要

本发明提出一种具有在线清洗功能和预防离子刻蚀清洗过程污染的磁控溅射靶及其应用方法。其磁控溅射靶的靶材可绕其中心轴线旋转，通过内部磁场控制，形成两组溅射跑道，并且，在局部空间中设置清洗阳极和布气装置，充入惰性气体，主溅射电源连接于靶材与镀膜机主阳极之间，进行溅射镀膜，辅助清洗电源连接于靶材与局部空间内的清洗阳极之间，对靶材表面溅射刻蚀清洗。由于靶材连续旋转而两组溅射跑道的相对方位不变，从而达到对整个靶面的连续在线清洗，从而保持靶面的溅射工作状态稳定，提高了化合物薄膜在工件上的沉积速率，基本保持了工艺重现性；本发明还便于对靶材进行离子刻蚀清洗，防止了工件表面污染和靶材之间的交叉污染。

主权项

1.一种具有在线清洗功能的磁控溅射靶，其特征在于：具有可绕其中心轴线旋转的靶材，在旋转所经过的部分圆周区域用屏蔽壁形成局部空间，其中充入惰性气体；靶材上的各溅射部分及其附近的部分区域在反应溅射镀膜工作过程中，可周期性地进入局部空间内被惰性气体离子刻蚀清洗，从而使靶面化合物薄膜的生成情况可稳定控制，避免进入靶面中毒状态。