[发明专利]化学增幅型正型光致抗蚀剂组合物无效
申请号: | 200510064839.2 | 申请日: | 2005-04-06 |
公开(公告)号: | CN1680875A | 公开(公告)日: | 2005-10-12 |
发明(设计)人: | 宫城贤;馆俊聪;丸山健治;高木勇 | 申请(专利权)人: | 东京应化工业株式会社 |
主分类号: | G03F7/039 | 分类号: | G03F7/039;G03F7/004 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 朱丹 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明涉及一种化学增幅型正型光致抗蚀剂组合物,其特征在于:其含有树脂成分(A)和通过放射线的照射产生酸成分的化合物(C)以及有机溶剂,通过由前述(C)成分所产生的酸成分的作用,该组合物具有对碱性水溶液溶解性增大的性质,其中前述(A)成分含有下述酚醛清漆树脂(a1)的所有酚性羟基中的一部分通过酸解离性溶解抑制基保护而形成的碱难溶性或不溶性树脂成分,所述酚醛清漆树脂(a1)是通过使芳香族羟基化合物与至少含有甲醛和羟基取代芳香醛的醛类缩合反应而得到的酚醛清漆树脂。 | ||
搜索关键词: | 化学 增幅 型正型光致抗蚀剂 组合 | ||
【主权项】:
1.一种化学增幅型正型光致抗蚀剂组合物,其特征在于:含有树脂成分(A)和通过放射线的照射产生酸成分的化合物(C)以及有机溶剂,通过由前述(C)成分所产生的酸成分的作用,具有对碱性水溶液溶解性增大的性质,其中前述(A)成分含有下述酚醛清漆树脂(a1)的所有酚性羟基中的一部分通过酸解离性溶解抑制基保护而形成的碱难溶性或不溶性树脂成分,所述酚醛清漆树脂(a1)是通过使芳香族羟基化合物与至少含有甲醛和羟基取代芳香醛的醛类缩合反应而得到的酚醛清漆树脂。
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