[发明专利]抛光设备

摘要

该抛光设备能够精确地控制抛光压力，准确地定位压力盘以及均匀地抛光工件。在该抛光设备中，固定盘包括用于将承压流体导入所述的第一流体腔并将抛光头部分压向下的第一压力装置；用于将承压流体导入所述的第二流体腔并将压力盘压向下的第二压力装置；和用于将承压流体导入所述的第三流体腔并将所述的工件压向下的第三压力装置。通过这一结构，将所述工件固定在弹性片元件的下侧，并通过抛光轮对工件的下表面进行抛光。

主权项

1.一种抛光设备，包括：一个抛光轮，具有一个上表面，一个抛光垫粘附在所述的上表面上；一个固定盘，具有一个下表面，工件固定在所述的下表面上以将所述的工件压在抛光垫上；以及一个驱动机构，用于对于所述的固定盘相对移动所述的抛光轮，以抛光所述工件的下表面，其特征在于，所述的固定盘包括：一个盘座；一个抛光头部分，它通过一第一薄膜贴附在所述盘座下侧，并能朝着所述抛光轮移动，所述的抛光头部分具有一压力环，所述压力环位于抛光头部分的下侧，并能朝着所述抛光轮移动；一个压力盘，用一个第二薄膜附着于该抛光头上并能朝着该抛光轮移动；一个弹性片元件，它贴附在所述的压力盘的下表面上；一个第一流体腔，它形成于所述的盘座和所述的抛光头部分之间，并通过所述的第一薄膜封闭；一个第二流体腔，它形成于所述的抛光头部分和所述的压力盘之间，并通过所述的第二薄膜封闭；一个第三流体腔，它形成于所述的压力盘下表面和弹性片元件之间；一个第一压力装置，用于将承压流体导入所述的第一流体腔并将所述的抛光头部分压向下；一个第二压力装置，用于将承压流体导入所述的第二流体腔并将所述的压力盘压向下；和一个第三压力装置，用于将承压流体导入所述的第三流体腔并将所述的工件压向下；以及由此，所述的工件被固定在所述的弹性片元件下侧上，同时对所述工件的下表面进行抛光。