[发明专利]辐射系统、光刻设备、装置制造方法及其制造的装置有效
| 申请号： | 200510076147.X | 申请日： | 2005-06-07 |
| 公开（公告）号： | CN1707363A | 公开（公告）日： | 2005-12-14 |
| 发明（设计）人： | M·M·T·M·迪里奇斯;M·F·A·厄林斯;H·－J·沃尔马;O·W·V·弗里恩斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 刘红;张志醒 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种辐射系统，包括一用于产生辐射束的辐射发生器、一源、一用于接收辐射束并提供辐射投射束的照明系统。该照明系统包括用于测量辐射束相对于照明系统的位置和倾斜度至少之一的束测量系统，以及用于将辐射束部分截面重定向到束测量系统的投射装置。束测量系统可能包括多个位置传感器，其输出可用于确定辐射源相对于照明系统的不准确的对准。光阑连接到辐射发生器的收集器，使得加之X、Y和Z校正，Rx、Ry和Rz校正也是可能的。 | ||
| 搜索关键词： | 辐射 系统 光刻 设备 装置 制造 方法 及其 | ||
【主权项】：
1、一种辐射系统，包括：一用于产生辐射束的辐射发生器，该辐射发生器包括一辐射源；和一用于接收辐射束并提供辐射投射束的照明系统，该照明系统包括：一用于测量辐射束相对于照明系统的位置和倾斜度至少之一的束测量系统；和一用于将部分辐射束引导到束测量系统的投射装置，其中部分辐射束是辐射束的部分截面。
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