[发明专利]去除光刻胶的方法以及再生光刻胶的方法无效
| 申请号： | 200510089655.1 | 申请日： | 2005-08-08 |
| 公开（公告）号： | CN1912749A | 公开（公告）日： | 2007-02-14 |
| 发明（设计）人： | 钟联盛;魏其宏;林信旭 | 申请（专利权）人： | 联华电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42;G03F7/26;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 封新琴;巫肖南 |
| 地址： | 台湾省新竹*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种去除光刻胶的方法，该方法在整个光刻胶移除的过程中并不使用等离子体，而以第一溶液对光刻胶层进行第一移除步骤。然后，以第二溶液对光刻胶层进行第二移除步骤，以完全去除该光刻胶层。其中，第一溶液与第二溶液的极性不同，且第一溶液的极性大于第二溶液的极性。 | ||
| 搜索关键词： | 去除 光刻 方法 以及 再生 | ||
【主权项】：
1.一种去除光刻胶的方法，包括：不使用等离子体；以第一溶液对光刻胶层进行第一移除步骤；以及以第二溶液对所述光刻胶层进行第二移除步骤，以完全去除该光刻胶层，其中所述第一溶液与所述第二溶液的极性不同。
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