[发明专利]产光酸聚合物、其制法及包含它的顶部抗反射涂布组合物有效
| 申请号： | 200510092116.3 | 申请日： | 2005-08-19 |
| 公开（公告）号： | CN1789294A | 公开（公告）日： | 2006-06-21 |
| 发明（设计）人： | 郑傤昌;卜喆圭;林昌文;文承灿 | 申请（专利权）人： | 海力士半导体有限公司 |
| 主分类号： | C08F220/10 | 分类号： | C08F220/10;C08F220/52;C08F232/08;C08F4/32;G03F7/11 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 封新琴;巫肖南 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开一种由右式1表示的产光酸聚合物其中R1为C1－10烃或其中氢原子全部地或部分地经氟原子取代的C1－10烃；R2为氢或甲基；及a、b、c与d表示各单体的摩尔分数且为约0.05至约0.9，使得a、b、c与d的和等于1。因为式1的产光酸聚合物为非水溶性且用作产光酸剂，其可用于制备用于浸渍蚀刻法的顶部抗反射涂布组合物。 | ||
| 搜索关键词： | 产光酸 聚合物 制法 包含 顶部 反射 组合 | ||
【主权项】：
1.一种由下式1表示的产光酸聚合物：![]()
其中R1为C1-10烃或其中氢原子全部地或部分地被氟原子取代的C1-10烃；R2为氢或甲基；及a、b、c与d表示各单体的摩尔分数且为约0.05至约0.9，使得a、b、c与d的和等于1。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于海力士半导体有限公司，未经海力士半导体有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200510092116.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
