[发明专利]用于生产印刷电路板的投影曝光装置和投影曝光方法有效
| 申请号： | 200510099146.7 | 申请日： | 2005-09-02 |
| 公开（公告）号： | CN1743961A | 公开（公告）日： | 2006-03-08 |
| 发明（设计）人： | 中川涉;桥本一范 | 申请（专利权）人： | 株式会社阿迪泰克工程 |
| 主分类号： | G03F7/23 | 分类号： | G03F7/23;G03F9/00 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 黄纶伟 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 用于生产印刷电路板的投影曝光装置和投影曝光方法。用于生产印刷电路板的投影曝光装置及投影曝光方法，其中将包括要在印刷电路板(2)上曝光的块(10)和标片(12)的整个图案绘制在通过分割线(19)分割成6个区域的光掩模(1)上，通过使用遮蔽设备(3)遮蔽除曝光区域以外的其他区域，对安放在可移动的光掩模台(5)上的光掩模(1)的各个分割区域进行曝光。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 生产 印刷 电路板 投影 曝光 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种投影曝光装置，包括：光源，用于照射曝光光；大于所述光源的照射区域的光掩模，该光掩模绘制有要在作为曝光对象的印刷电路板上进行曝光的整个图案；布置在所述光掩模与所述板之间的光学器件，用于以预定缩放率放大或者缩小地在所述板上曝光所述光掩模的所述图案。光掩模移动设备，用于将所述光掩模的确定区域定位到来自所述光源的所述照射光的所述照射区域；板移动设备，将所述印刷电路板的确定区域定位到所述曝光光穿过所述光掩模和所述光学器件照射到的曝光区域，其中通过来自所述光源的光在印刷电路板的所述确定区域上曝光所述光掩模的所述确定区域的图案。
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